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裡有底了，知道老闆要他們開始設計光刻機和離子注入機了，沒看到各集團公司都沒人參加嗎。

等沈丹青帶著劉秘書走進會議室，大家都習慣地齊刷刷地站起來，異口同聲地叫道：“老闆”。就差劉秘書進門唱名“老闆到”了，與委員長的排場也相差彷彿了，難怪世上的人都想功成名就，權力的誘惑實在是太大了。

“大家坐”沈丹青雙手虛按，嘴上說道。

然後他自己先坐下，等大家都坐好了，才開始發言：“這次，相信大家也知道，我將你們叫來開會的原因，沒錯，我們要研發光刻機和離子注入機了，不管你們是否蒐集完資料了，還是就要過年了，今年你們要吃點苦。

前段時間我已經跟你們講了，微型晶片包括儲存器是今後工業機械和電子產品所必須有的重要部件，就像煮菜必須放鹽一樣。

因此我們必須加快晶片生產裝置的研發，否則會影響公司以後的發展。

這段時間，你們也都查了資料吧！哪一位給大傢伙說說，光刻機的原理和技術要點，離子注入機的原理和技術要點。”話說完，沈丹青就注視著會場裡的每一個人。

發現他們都躲躲閃閃，生怕讓他點了自己的名。只有一個人例外，那就是劉秘書，此時他已速記好自己的講話，正氣定神閒地望著他。想必是等待自己再發言。

未完待續……

第107章：企業分類

“咳咳”沈丹青重重地咳嗽了兩聲，提醒下大家，以示自己在注意他們。

最後還是洪濤避無可避，才不得不站起來說：“老闆，我在美國接觸過，雖然己是過時的技術了，但萬變不離其宗。原理我想來，不會變。”

起了開頭，他才正式的講解道：

“光刻機又叫掩模對準曝光機，是利用照相機的原理，將電子工程師設計的電路圖分多步驟轉移到矽晶圓的方法。這裡面最難的是鐳射技術和機械控制精度。但這兩點其實我們早已經解決了，不得不說，老闆真是高贍遠囑啊！

我先說，鐳射的重要性。一般光刻機上所用的鐳射都是紫外光，據我到公司以來，才瞭解。紫外光也分等級，普通的紫外光也叫uv，它的光波振幅是365nm，第二種叫深紫外光，也叫duv，又叫準分子極光，它的光波振幅減少到248nm到193nm，是我們早在九二年就請清華大學光電研究所，研究出來的技術。還有一種是我們為了提高奈米級數控機床的控制精度而研究出來的，我們叫極深紫外光又叫euv，它的光波振幅只有10到15nm。

光波振幅越小，意味著光刻精度越高。光波振幅小，能量密度就大，鐳射只要照射一次，就能在光刻膠上留下清晰的圖形。因此，我敢說在鐳射技術方面，我們已經達到了世界領先。

第二個重點，機械控制技術，就不用我說了，我們已是世界領先，機械精度達到了奈米級水平。而且我們的機械控制技術與國外完全不同，在老闆的指點下，我們採用的是非接觸式電磁控制直線電機，完全實現了電訊號控制，最高精度可以達到1奈米，這還是因為我們只採集了這個等級的資料。而據我所知，國外還在採取純機械控制技術，他們還在熱衷於滾珠絲槓和空氣軸承等技術。控制精度至少與我們相差兩個量級。

因此，我們研製光刻機已經沒有技術難度。相反研製離子注入機，卻有不少困難。

離子注入機就利用離子濺射的原理，來對已刻劃好的電晶體進行摻雜，以達到我們需要的電學效能。

這裡面有兩個技術難點，第一是高溫。高溫會令微小的電晶體變形，因此我們需要想辦法讓溫度降下來。第二，就是離子的轟擊力度，力度過大，容易對電晶體造成損傷，力度過少，又達不到我們需要摻雜的目的。