第二十一章 真空鍍膜（下）(第2/3 頁)

一個多小時。

在此期間，許秋向學姐請教了真空系統的工作原理。

陳婉清講解道：“機械泵，最多隻能將艙內壓強降至零點幾帕，必須使用分子泵才能將壓強降低至十的負五次方帕這個數量級，從而達到蒸鍍實驗所需的最低真空度要求。

分子泵只能在低壓強下使用。所以在壓強大於20帕時，採用超真空擋板閥，阻隔分子泵和蒸鍍艙連線；當壓力低於20帕時將其關閉，再使分子泵和蒸鍍艙連通。

分子泵啟動後，還需要較長的時間，才能使蒸鍍艙內壓強達到1e-5級別。

這個時間在半小時至一個半小時之間。

如果一個半小時過後仍無法達到這個真空度，通常有兩種情況。

一種是體系氣密性不好，比如在關艙門時，門縫處夾了一個塑膠袋；

另一種情況是艙體內蒸鍍殘留物過多，需要清理。”

雖然系統裡也有影像資料供許秋學習，但他覺得還是聽學姐講解更好一些。

主要是兩個人站一起，一直不互動也蠻尷尬的。

……

一小時後。

真空計示數達到52e-5帕，升溫程式也進入第二階段，一切正常。

十二分鐘後。

溫度示數達到400攝氏度，膜厚儀顯示的實時蒸鍍速率，在-001至001埃每秒之間波動，膜厚顯示仍為000埃。

三分鐘後。

溫度示數繼續增加，直至480攝氏度左右，蒸鍍速率開始在000至003埃每秒之間波動。

當溫度達到520攝氏度後，蒸鍍速率維持在020至030埃每秒。

許秋先開啟樣品臺旋轉，在等待了約十秒鐘後，同時開啟樣品擋板並將膜厚儀的膜厚計數器歸零。

鈣要蒸鍍10奈米的厚度，也就是100埃。

……

待膜厚儀示數達到100埃時，許秋迅速關閉樣品擋板。

隨後，他將束源爐升溫數控裝置關閉，讓束源爐自然降溫。

最後，將膜厚儀的引數改為鋁的引數。

……

半小時後。

束源爐的溫度降低至77攝氏度。

許秋關閉鈣的束源爐擋板，開啟電流加熱裝置。

這個加熱裝置很簡單，就是把電源、鎢簍、電位器（類似於滑動變阻器）、保險絲、電流計連在一起，透過調節電位器，便可以改變電路中的電流大小。

許秋緩慢扭動電位器的旋鈕，使電流計示數從0逐漸增加至18安培。

當電流達到16安培時，膜厚儀上蒸鍍速率開始有了示數。

電流達到18安培後，許秋等待了幾秒，然後同時開啟樣品擋板並清零膜厚儀的膜厚計數器。

蒸鍍速率則先是從02、03迅速提升至30，隨後迅速回落至18，之後緩緩下降至17，16埃每秒……

電流計的示數也會隨著時間變化，忽上忽下。

每當其相較於18的偏離值超過1時，許秋就將其調至18。

鋁的厚度要求是100奈米，也就是1000埃。

……

待膜厚儀示數達到1000埃時，許秋迅速按下樣品擋板。

然後緩緩扭動電位器，將電流歸零。

接著關閉超真空擋板閥，停止分子泵。

等待十分鐘後，分子泵轉速從27000rp降至0，關閉其開關。

最後，關閉機械泵，關閉總控臺。

…………

“終於結束啦！”許秋長吁了一口氣，感慨道。

“這麼多操作，居然零失誤，